Influence of film thickness and Ar N2 plasma gas on the structure and performance of sputtered vanadium nitride coatings
Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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Soumis le : mercredi 20 juillet 2022-15:12:55
Dernière modification le : lundi 8 juillet 2024-12:34:00
Archivage à long terme le : vendredi 21 octobre 2022-20:42:32